eccezionale resistenza chimica e superiore tolleranza al vapore
prestazioni eccezionalmente elevate anche a basso vuoto
eccellente vuoto finale anche con zavorra a gas
funzionamento simultaneo di due applicazioni di vuoto indipendenti, con valvole di ritegno affidabili per evitare interferenze tra i sistemi
eccellente rispetto dell'ambiente grazie all'efficiente recupero del solvente
Sistema di vuoto chimico in azione
Questo sistema di vuoto per chimica consente il funzionamento simultaneo di due processi con una sola pompa. Le applicazioni tipiche sono evaporatori rotanti, concentratori di vuoto e forni di essiccazione sotto vuoto. Ogni connessione per il vuoto è dotata di una valvola manuale per regolare il flusso effettivo su ciascuna porta. La pompa MD 4C NT offre una velocità di pompaggio più che sufficiente anche per il funzionamento in parallelo di due applicazioni complesse. Il separatore in ingresso (AK), realizzato in vetro con rivestimento protettivo, trattiene le particelle e le gocce di liquido. Il condensatore dei vapori di scarico in uscita (EK) è altamente efficiente e compatto. Il condensatore consente un recupero del solvente vicino al 100%, un riciclaggio efficiente e una protezione attiva dell'ambiente.
Dati tecnici e grafici
Rumorosità (livello di pressione sonora) in dBA a 50 Hz o 1500 giri/min/62% (VARIO)/1500 giri/min (VARIO-SP)/12500 Upm (VACUU-PURE®) - 45 dBA -
Conformità ATEX - II 3/- G Ex h IIC T3 Gc X Solo Atm. interni -
Certificazione NRTL - Sì -
Articoli forniti - Unità di pompaggio completamente montata, pronta per l'uso, con manuale. -
Gamma di tensione nominale di rete 1 - 230 V
Frequenza di rete 1 - 50-60 Hz
Numero di teste - 4 -
Numero di stadi - 3 -
Controllore del vuoto - 17 -
Temperatura ambiente inferiore (funzionamento) - 10 °C -
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