Microscopio STEM HF5000
TEMda laboratorioper ricerca sui materiali

Microscopio STEM - HF5000 - Hitachi High-Tech Europe GmbH - TEM / da laboratorio / per ricerca sui materiali
Microscopio STEM - HF5000 - Hitachi High-Tech Europe GmbH - TEM / da laboratorio / per ricerca sui materiali
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Caratteristiche

Tipo
TEM, STEM
Applicazioni
da laboratorio, per ricerca sui materiali
Tecniche di osservazione
BF-STEM, DF-STEM
Configurazione
a pavimento
Sorgente di elettroni
a emissione di campo freddo
Tipo di rilevatore
con rilevatore di elettroni secondari
Altre caratteristiche
alta risoluzione, automatizzato, per nanotecnologie
Ingrandimento

Max.: 8.000.000 unit

Min.: 20 unit

Risoluzione spaziale

0,08 nm, 0,1 nm

Descrizione

La risoluzione spaziale di 0,078 nm in STEM è ottenuta grazie all’elevata capacità di inclinazione del campione e a uno o più rivelatori EDX ad ampio angolo solido, il tutto in una configurazione con un unico obiettivo. L’HF5000 si basa sulle caratteristiche dello STEM dedicato Hitachi HD-2700, tra cui il correttore di aberrazioni completamente automatizzato sviluppato da Hitachi, il doppio SDD EDX simmetrico e l’imaging SE con correzione Cs. Incorpora inoltre le tecnologie TEM/STEM avanzate sviluppate nella serie HF. L’integrazione di queste tecnologie consolidate in una nuova piattaforma TEM/STEM da 200 kV dà vita a uno strumento che offre una combinazione ottimale di imaging e analisi sub-Å, oltre alla flessibilità e alle capacità uniche necessarie per affrontare gli studi più avanzati. Caratteristiche Correttore di aberrazione sferica a sonda completamente automatizzato di Hitachi Cannone elettronico FE a freddo (Cold FEG) ad alta luminosità e alta stabilità Colonna e alimentatori ultra-stabili per prestazioni dello strumento potenziate Capacità di imaging SEM e STEM simultaneo con correzione Cs e risoluzione atomica Nuovo tavolino portacampioni ad ingresso laterale ad alta stabilità e portacampioni Doppi rivelatori EDX* da 100 mm² disposti simmetricamente opposti: “Symmetrical Dual SDD*” Alloggiamento di nuova concezione per prestazioni ottimali in ambienti di laboratorio reali Ampia gamma di portacampioni avanzati Hitachi* FEG a freddo ad alta luminosità × Alta stabilità × Correttore di aberrazione automatizzato Hitachi Il nuovo FEG a freddo ad alta stabilità utilizza una versione completamente riprogettata della consolidata tecnologia Hitachi relativa alla sorgente di elettroni a emissione di campo a freddo. Anche la stabilità complessiva del sistema è stata ottimizzata per ottenere immagini con risoluzione inferiore all’Å. La colonna, gli alimentatori

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* I prezzi non includono tasse, spese di consegna, dazi doganali, né eventuali costi d'installazione o di attivazione. I prezzi vengono proposti a titolo indicativo e possono subire modifiche in base al Paese, al prezzo stesso delle materie prime e al tasso di cambio.