Sistema di produzione PlasmaPro 100 Nano CVD

Strumenti per la deposizione di vapore chimico (CVD) e PECVD per la crescita di nanomateriali ed eterostrutture 1D/2D. PlasmaPro 100 Nano (ex Nanofab) offre una crescita ad alte prestazioni di nanomateriali con attivazione del catalizzatore in situ e un rigoroso controllo del processo, con temperature flessibili fino a 1.200°C. Eccellente uniformità con temperature flessibili fino a 1200°C Possibilità di scegliere tra un tavolo da 700°C, 800°C o 1200°C Dimensioni del campione fino a 200 mm Blocco del carico a vuoto - Sostituzione rapida dei campioni Design a parete fredda con soffione a doccia per un'erogazione uniforme del precursore Sistema opzionale di erogazione di sorgenti liquide/solide per la crescita di MoS2, MoSe2 e altri TMDC Eccellente uniformità con temperature flessibili fino a 1200°C Possibilità di scegliere tra un tavolo da 700°C, 800°C o 1200°C Dimensioni del campione fino a 200 mm Blocco del carico a vuoto - Sostituzione rapida dei campioni Design a parete fredda con soffione a doccia per un'erogazione uniforme del precursore Sistema di erogazione di sorgenti liquide/solide opzionale per la crescita di MoS2, MoSe2 e altri TMDC Assistenza clienti globale Oxford Instruments si impegna a fornire un'assistenza clienti globale completa, flessibile e affidabile. Offriamo un servizio di qualità eccellente per tutta la durata del sistema. Il software di diagnostica remota consente di diagnosticare e risolvere i guasti in modo rapido e semplice. Sono disponibili contratti di assistenza che si adattano al budget e alla situazione. Pezzi di ricambio globali in posizioni strategiche per una risposta rapida.