Sistema di produzione FlexAL

Il sistema di deposizione di strati atomici (ALD) FlexAL offre un'ampia gamma di processi ALD al plasma e termici di alta qualità ottimizzati, con la massima flessibilità in termini di precursori, gas di processo e configurazione hardware all'interno di un'unica camera di processo. Plasma remoto per ALD al plasma a basso danno combinato con ALD termico in un'unica camera di deposizione Possibilità di elettrodi polarizzati a radiofrequenza per il controllo delle proprietà del film Gestione da cassetta a cassetta standard del settore per una maggiore produttività Massima flessibilità nella scelta dei precursori, dei gas di processo, delle caratteristiche e delle opzioni hardware Ottimizzato per mantenere substrati di alta qualità e a basso danneggiamento I rivestimenti rimovibili consentono una facile manutenzione della camera Bassa temperatura per consentire una deposizione di alta qualità su superfici sensibili alla temperatura Panoramica La famiglia di prodotti ALD comprende una gamma di strumenti in grado di soddisfare le diverse esigenze del mondo accademico, della ricerca e sviluppo aziendale e della produzione su piccola scala. Oxford Instruments dispone di un'ampia libreria di processi e ne sviluppa continuamente di nuovi. Forniamo un'assistenza continua e gratuita per tutta la durata di vita di ogni strumento ALD, offrendo consigli sullo sviluppo di nuovi materiali e un accesso continuo agli ultimi sviluppi del processo ALD, comprese le nuove ricette di processo. Gli ioni svolgono un ruolo importante nei processi ALD al plasma. Gli ioni possono migliorare la qualità del film, in particolare per i nitruri e a temperature di deposizione più basse. Tuttavia, alcune interfacce e substrati possono essere sensibili agli ioni e causare danni ai dispositivi. Il sistema FlexAL ALD controlla con precisione gli ioni del plasma grazie a una sorgente di plasma avanzata e a un'unità di abbinamento automatico (AMU), consentendo di ottenere il massimo beneficio dal plasma riducendo al minimo i danni.