Microscopio FIB-SEM NX5000

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Il sistema FIB-SEM Hitachi Ethos integra un FE-SEM di ultima generazione caratterizzato da un’eccezionale luminosità e stabilità del fascio. Ethos offre immagini ad alta risoluzione a basse tensioni, combinate con l’ottica ionica per lavorazioni di precisione su scala nanometrica. Caratteristiche Caratteristiche principali 1. Colonna FE-SEM ad alte prestazioni con modalità a doppia lente Osservazione ad altissima risoluzione (modalità HR: semi-in-lens) Rilevamento dell’endpoint ad alta precisione in tempo reale (modalità FF: Field Free (modalità time sharing)) 2. Lavorazione dei materiali ad alta produttività Lavorazione ultraveloce con elevata densità di corrente ionica (corrente massima del fascio: 100 nA) Script programmabile dall’utente per l’elaborazione e l’osservazione automatiche 3. Sistema di microcampionamento Controllo dell’orientamento del campione completamente integrato per l’effetto anti-curtaining (tecnologia ACE) Preparazione dei campioni TEM per lamelle uniformi con qualsiasi orientamento 4. Compatibile con il triplo fascio, per risultati di qualità avanzata Lavorazione dei materiali con fascio ionico di gas nobile a bassa accelerazione Funzioni innovative che riducono gli artefatti di fresatura legati agli ioni di Ga e di altro tipo 5. Ampia camera multiporta e tavolino per varie applicazioni Sistema in grado di gestire campioni di grandi dimensioni con eccezionale stabilità del tavolino Tracciamento a lunga distanza potenziato su tutta l’area (155 x 155 mm) Ottica elettronica perfezionata e rilevamento multisegnale La colonna SEM Ethos è composta da un sistema di lenti obiettivo combinato a campo magnetico ed elettrostatico, configurato in due modalità di funzionamento. La modalità ad alta risoluzione (HR) consente l’osservazione del campione alla massima risoluzione immergendo il campione nel campo magnetico del sistema di lenti. La modalità Field Free (FF) offre l’elaborazione FIB in tempo reale per una fresatura di fine corsa ad alta precisione.