Spettrometro infrarosso IconIR300™

AFMper ispezioneper nanotecnologie

Aggiunge 300 mm di accesso ai campioni per la ricerca e lo sviluppo di semiconduttori, l'analisi dei guasti e l'identificazione dei nanocontaminanti Il sistema nanoIR per grandi campioni Dimension IconIR300™ offre una caratterizzazione rapida e di alta precisione su scala nanometrica per applicazioni nei semiconduttori, supportando un ampio spettro di tipi di materiali e dimensioni di campioni fino a wafer di 300 mm. Combinando la spettroscopia IR fototermica proprietaria con la mappatura avanzata delle proprietà AFM, IconIR300 consente l'ispezione automatizzata dei wafer e l'identificazione dei difetti su campioni che sfidano le tecniche convenzionali. L'architettura del sistema supporta l'imaging chimico rapido e l'analisi quantitativa, estendendo le capacità AFM-IR a nuovi segmenti e materiali dei semiconduttori. L'automazione delle misure basata su ricette integrate e il robusto software di analisi dei dati semplificano i flussi di lavoro, garantendo misure riproducibili e ad alto rendimento per lo sviluppo dei processi, il controllo qualità e gli ambienti di produzione. Intero wafer caratterizzazione delle proprietà chimiche e dei materiali su scala nanometrica Combina la spettroscopia IR e la mappatura delle proprietà AFM per misure altamente accurate e non distruttive di wafer da 200 e 300 mm. Inequivocabile identificazione inequivocabile dei nano-contaminanti organici/inorganici Migliora la qualità dei wafer di semiconduttori e delle fotomaschere con dati AFM-IR fototermici direttamente correlati alle librerie FTIR. Automatizzato misure basate su ricette Accesso facile ai dati completi e supporto dei file KLARF. il sistema Dimension IconIR300 offre: Misura non distruttiva dell'intero wafer di wafer da 200 mm e 300 mm; Identificazione inequivocabile di nano-contaminanti organici e inorganici su wafer di semiconduttori