Spettrometro infrarosso Dimension IconIR300™

AFMper ispezioneper nanotecnologie

Aggiunge 300 mm di accesso ai campioni per la ricerca e lo sviluppo dei semiconduttori, l'analisi dei guasti e l'identificazione dei nanocontaminanti Il sistema nanoIR per grandi campioni Dimension IconIR300™ offre una caratterizzazione su scala nanometrica ad alta velocità e precisione per applicazioni nei semiconduttori, con capacità, dimensioni del campione e flessibilità del tipo di materiale senza pari. Grazie alla combinazione della spettroscopia IR fototermica proprietaria e delle capacità di mappatura delle proprietà AFM su scala nanometrica, IconIR300 consente l'ispezione automatizzata dei wafer e l'identificazione dei difetti sulla più ampia gamma di campioni di wafer e fotomaschere. Il sistema estende in modo significativo l'applicazione della tecnologia AFM-IR ai segmenti dell'industria dei semiconduttori al di là della portata delle tecniche tradizionali. Costruito sull'innovativa architettura per grandi campioni del sistema Dimension IconIR, IconIR300 offre microscopia correlativa e imaging chimico, oltre a una maggiore risoluzione e sensibilità. Integrato con la gestione automatizzata dei wafer e con un software avanzato per la raccolta e l'analisi dei dati, il sistema consente un maggiore risparmio di tempo e di costi e una maggiore efficienza produttiva. Intero wafer caratterizzazione delle proprietà chimiche e dei materiali su scala nanometrica Combina la spettroscopia IR e la mappatura delle proprietà AFM per misure altamente accurate e non distruttive di wafer da 200 e 300 mm. Inequivocabile identificazione inequivocabile dei nano-contaminanti organici/inorganici Migliora la qualità dei wafer di semiconduttori e delle fotomaschere con dati AFM-IR fototermici direttamente correlati alle librerie FTIR. Automatizzato misure basate su ricette Accesso facile ai dati completi e supporto dei file KLARF. Solo il sistema Dimension IconIR300 offre: