Sistema di produzione Atomfab

Atomfab è il sistema ALD di produzione al plasma remoto più veloce sul mercato. SOLUZIONI PER LE VOSTRE ESIGENZE DI PRODUZIONE CoO competitivo Manutenzione facile e veloce Eccellente uniformità del film Alta qualità del materiale Basso danno al substrato Tempi di ciclo più rapidi, elevata produttività Gestione cluster e automatizzata dei wafer PRESTAZIONI La tecnologia ALD di Atomfab offre film ultrasottili controllati con precisione per applicazioni avanzate su scala nanometrica, con rivestimento conforme di strutture di substrati sensibili. VANTAGGI DEL PROCESSO PER LA PASSIVAZIONE DI DISPOSITIVI DI POTENZA E RF Processi garantiti e impostati dai nostri ingegneri Supporto a vita per processi aggiuntivi/nuovi Lavorazione al plasma a basso impatto ambientale Deposizione di alta qualità con bassa contaminazione del film Bassi livelli di particelle Tempi di esposizione al plasma brevi che consentono un'elevata produttività Pretrattamenti della superficie al plasma I VANTAGGI DELL'ALD PLASMA PER I DISPOSITIVI DI GaN, POTENZA E RF Con il pretrattamento al plasma prima della deposizione per migliorare la qualità dell'interfaccia Basso danno, deposizione uniforme ALD al plasma remoto con energia ionica controllata da quasi zero a 30 eV Passivazione ALD, dielettrico di gate con film di Al2O3. ASSISTENZA CLIENTI GLOBALE Oxford Instruments si impegna a fornire un'assistenza clienti globale completa, flessibile e affidabile. Offriamo un servizio di qualità eccellente per tutta la durata del sistema. Il software di diagnostica remota consente di diagnosticare e risolvere i guasti in modo rapido e semplice Sono disponibili contratti di assistenza che si adattano al budget e alla situazione Pezzi di ricambio globali in posizioni strategiche per una risposta rapida