Unità di controllo di portata Turbo™ 2950

da laboratorioad alta precisione

Basati su una tecnologia comprovata sul campo, i controllori di flusso di liquido MSP Turbo™ 2950 sono stati progettati per essere abbinati ai vaporizzatori MSP Turbo II™ per fornire una soluzione affidabile e ad alte prestazioni per la distribuzione di vapore liquido nei processi di deposizione di film sottili per semiconduttori (inclusi CVD, PECVD, ALD e MOCVD). I controllori di flusso di liquido Turbo™ 2950 contengono un sensore di flusso ad alta precisione e alta velocità progettato su misura e un'elettronica di controllo del flusso meticolosamente progettata per fornire le prestazioni di classe mondiale necessarie per l'elaborazione avanzata dei semiconduttori. - Controllo del Flusso Preciso I LFC 2950 integrano sensori di flusso e elettronica di controllo del liquido per regolare la valvola Piezo sui vaporizzatori Turbo II™ di MSP. Per i vaporizzatori privi di una valvola Piezo integrata, considerare la serie 2950V Turbo™ LFC per un controllo del flusso efficace. - Applicazioni - Processi di deposizione di film sottili per semiconduttori - Deposizione chimica da vapore (CVD) - Deposizione chimica da vapore assistita da plasma (PECVD) - Deposizione di strati atomici (ALD) - Deposizione chimica da vapore di metalli organici (MOCVD) - Applicazioni con requisiti di flusso costante - Caratteristiche e Vantaggi - Tasso di flusso fisso - Precisione e linearità eccezionali - Tempo di risposta ultra rapido - Ripetibilità superiore - Opzioni di gamma di flusso ampie - Modelli Turbo™ LFC Disponibili - Numero di modello: 2950-002, 2950-01, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30 - Scala completa TEOS* (g/min): 0.2, 1, 5, 10, 20, 30 - Scala completa TEMAZr (g/min): n/a, 0.19, 0.95, 1.9, 3.8, 5.7 - Scala completa H2O (g/min): 0.14, 0.73, 3.6, 7.3, 14, 21 *Il flusso massimo nominale è determinato utilizzando TEOS come liquido di riferimento a 23±2°C. La gamma di tasso di flusso è una funzione del liquido specificato. - Marca: TSI (MSP Turbo™) - Modello: 2950-01 (altri modelli disponibili: 2950-002, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30) - Applicazione: Deposizione di film sottili per semiconduttori (CVD, PECVD, ALD, MOCVD) - Caratteristiche: Tasso di flusso fisso, alta precisione, risposta rapida, ripetibilità, ampia gamma