Sistema di rivestimento di facciata automatico EM ACE600

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Panoramica
Preparate film sottili a grana fine per microscopia elettronica con lo sputter coater EM ACE600. Processi di deposizione carbone e metallica automatizzati e precisi garantiscono risultati riproducibili e aumentano la produttività dei campioni. Solo per uso di ricerca.

Capacità principali

• Coater ad alto vuoto configurabile per più sorgenti: sputter, filo di carbonio, barra di carbonio ed e‑beam.
• Camera di processo metallico a doppia sorgente che consente fino a due sorgenti diverse in una singola sessione senza interrompere il vuoto.
• Processi automatizzati basati su ricette e carico frontale per una gestione sicura e comoda.
• Supporto per flussi di lavoro cryo: interfaccia di trasferimento cryo, stadio cryo e dispositivo di frattura base per deposito in condizioni criogeniche e trasferimento cryo al SEM.
• Opzione di ombreggiatura rotante (LARS) con sorgente e‑beam e stadio LARS motorizzato per depositi a basso angolo su strutture nanometriche.
• Interfaccia touch screen basata su workflow per l'esecuzione semplice dei processi di routine con un solo pulsante.

Rivestimento sputter
Ottenete rivestimenti sputter fini e riproducibili. Il sistema raggiunge un eccellente vuoto di base (< 2 x 10-6 mbar standard) con opzione di trappola di Meissner per arrivare al regime 10-7 mbar. Distanza del campione e angolo di deposizione regolabili e stadio rotante permettono depositi uniformi e ottimizzazione del processo per diverse morfologie e target. Progettato per analisi SEM ad alto ingrandimento (fino a ~200kX e oltre).

Rivestimento carbonio
Depositate film carboniosi ultra‑fini e omogenei tramite evaporazione su filo di carbonio, evaporazione su barra di carbonio o evaporazione e‑beam. Leica adaptive pulsing per filo di carbonio fornisce film amorfi precisi con controllo sub‑nanometrico minimizzando l'impatto termico. Adatto per layer di supporto TEM, coating di protezione e grandi strati omogenei di carbonio. L'evaporazione e‑beam è disponibile per applicazioni che richiedono bassa divergenza del fascio, come l'ombreggiatura rotante.

Adattabilità e configurazione

• Concetto ottimizzato a due sorgenti con porte inclinate e stadio rotante per distribuzione uniforme su un intero stadio da 100 mm.
• Scelta di teste: filo carbonio, barra carbonio, e‑beam e sputter; possibilità di glow discharge.
• Aggiornabile in sito con ampia selezione di portacampioni e stadi (stadio motorizzato 3‑assi, stadi rotativi/manuali, stadio di raffreddamento dedicato).
• Piatto a scambio rapido per workflow multiuso in laboratorio.

Vantaggi operativi

• Carico frontale per la gestione sicura di campioni sensibili.
• Sorgenti leggere e facili da maneggiare per l'uso quotidiano.
• Ricette automatizzate e processi basati su ricette per riproducibilità e aumento della produttività.

Applicazioni

• Imaging SEM ad alta risoluzione di campioni non conduttivi, piani o strutturati.
• Miglioramento del contrasto di strutture nanometriche (proteine, DNA) mediante ombreggiatura rotante e deposizione metallica.
• Produzione di film di supporto per TEM (film carboniosi ultra‑fini 1–5 nm, cotti per ridurre la contaminazione).
• Preparazione di campioni cryo‑SEM e workflow di trasferimento criogenico.

Specifiche tecniche

• Modello: EM ACE600
• Tipo: Coater ad alto vuoto per carbonio, e‑beam e sputter
• Vuoto di base: < 2 x 10-6 mbar (standard)
• Miglioria del vuoto opzionale: trappola di Meissner fino al regime 10-7 mbar
• Sorgenti supportate: sputter, evaporazione filo carbonio, evaporazione barra carbonio, evaporazione e‑beam
• Camera di processo metallico configurabile a doppia sorgente (fino a due sorgenti diverse in un processo)
• Copertura stadio: ottimizzata per uniformità su 100 mm
• Distanza campione e angolo di deposizione regolabili; stadio rotante per deposizione omogenea
• Controllo spessore film carbonio: deposizione precisa (film ultra‑fini tipici 1–5 nm)
• Capacità di ombreggiatura rotante (LARS) per deposizione metallica a basso angolo
• Compatibilità cryo: interfaccia di trasferimento cryo, stadio cryo, dispositivo di frattura base
• Carico: carico frontale per manipolazione sicura
• Interfaccia utente: touch screen basato su workflow, elaborazione ricette automatizzata
• Aggiornabilità: opzioni di aggiornamento in sito (sorgenti, stadi, glow discharge)
• Uso previsto: Solo per uso di ricerca