Rendimenti elevati, superiori a 100 µg da 2 ml di saliva
Elevata purezza per le applicazioni più esigenti
Completamente ottimizzato per l'uso con la saliva
Tempi di manipolazione rapidi e fasi di manipolazione ridotte
Nessun requisito di solventi, colonne o filtrazioni
Protocollo ad alta produttività per piastre DeepWell
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