Il FIB-SEM Hitachi Ethos incorpora un FE-SEM di ultima generazione con una luminosità e una stabilità del fascio superlative. Ethos offre immagini ad alta risoluzione a basse tensioni combinate con ottiche ioniche per un'elaborazione di precisione su scala nanometrica.
Caratteristiche principali
1. Colonna FE-SEM ad alte prestazioni con modalità a doppia lente
Osservazione ad altissima risoluzione (modalità HR: semi-in-lente)
Rilevamento dei punti finali ad alta precisione in tempo reale (modalità FF: Field Free (modalità di condivisione del tempo))
2. Elaborazione del materiale ad alta produttività
Elaborazione ultraveloce con alta densità di corrente ionica (corrente massima del fascio: 100 nA)
Script programmabile dall'utente per l'elaborazione e l'osservazione automatica
3. Sistema di microcampionamento
Controllo dell'orientamento del campione completamente integrato per l'effetto anti-curvatura (tecnologia ACE)
Preparazione del campione TEM per lamelle uniformi con qualsiasi orientamento
4. Capacità di triplo fascio, per risultati di qualità avanzata
Trattamento dei materiali con fasci di ioni di gas nobili a bassa accelerazione
Funzioni innovative che riducono gli ioni Ga e altri artefatti di fresatura
5. Camera e palcoscenico multipli di grandi dimensioni per varie applicazioni
Sistema in grado di gestire campioni di grandi dimensioni con un'eccezionale stabilità del palcoscenico
Tracciamento a lunga distanza potenziato a gamma completa (155 x 155 mm)
Ottica elettronica raffinata e rilevamento multisegnale
La colonna SEM Ethos è composta da un sistema di obiettivi composti a campo magnetico ed elettrostatico, configurati in due modalità.
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